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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • GMD2000粉底研磨分散機(jī)

    粉底研磨分散機(jī),SGN研磨分散機(jī)是一種剪切力很大的乳化設(shè)備,其主要部件是轉(zhuǎn)子和定子,轉(zhuǎn)子轉(zhuǎn)速可達(dá)7890/13789RPM,這可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速,軸承可以承受140000RPM(轉(zhuǎn)速是普通膠體磨的3-4倍,研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更小,效果更好),可以迅速地將液體、固體或膠體粉碎成微粒,并且混合均勻。

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    2024-07-08

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  • GMD2000農(nóng)藥懸浮液分散機(jī)

    農(nóng)藥懸浮液分散機(jī),是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的設(shè)備,轉(zhuǎn)速高達(dá)14000rpm,強(qiáng)大的剪切力。膠體磨磨頭配合分散機(jī)分散盤,先研磨后分散。這種特殊的設(shè)計的優(yōu)勢在于,粒子細(xì)化之后容易出現(xiàn)絮凝現(xiàn)象,所以此時分散十分重要,而砂磨機(jī)難以分散。

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    2024-07-05

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  • 納米水性樹脂分散機(jī)

    納米水性樹脂分散機(jī),SGN高速剪切分散機(jī)主要應(yīng)用于處理大量生成超細(xì)懸乳液。由于同時用三個均質(zhì)頭(轉(zhuǎn)子和定子)進(jìn)行處理,可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒,因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好。

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    2024-07-05

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  • GMD2000流體研磨分散機(jī)

    流體研磨分散機(jī),流體物料的一大特點(diǎn)就是必須要有液體介質(zhì)(水或者油),從而形成乳液或者混懸液。也就是必須是濕法研磨,物料要有良好的流動性。這樣可以更好的細(xì)化物料的粒徑,以及物料體系更加的均勻穩(wěn)定。

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    2024-07-05

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  • GMD2000除草劑研磨分散機(jī)

    除草劑研磨分散機(jī),SGN利用定轉(zhuǎn)子技術(shù),能保證連續(xù)均一的分散,并打散可能產(chǎn)生的結(jié)塊和團(tuán)聚。此外,傳統(tǒng)技術(shù)采用介質(zhì)研磨機(jī)的方式來達(dá)到特定的粒徑分布,消耗了大量的時間和能量。與這種方式相比,SGN分散研磨機(jī)可以在較短的時間內(nèi),將物料研磨到5um以下。

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    2024-07-05

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  • GMD2000石墨改性機(jī)油研磨分散機(jī)

    石墨改性機(jī)油研磨分散機(jī),石墨改性機(jī)油通常意義上講就是在機(jī)油中分散石墨粒子,從而改性機(jī)油的特性,提高它的性能。所以對于分散的效果要求比較高,傳統(tǒng)的分散設(shè)備無法更好的分散,結(jié)合客戶案例采用SGN研磨式分散機(jī)進(jìn)行分散,效果更佳。分散更均勻、粒徑更細(xì)。

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    2024-07-05

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  • GMD2000聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī)

    聚氨酯碳納米管研磨分散機(jī),采用德國的高速研磨分散技術(shù),通過超高轉(zhuǎn)速(高可達(dá)14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉(zhuǎn)子(通常配GMD 8SF,定轉(zhuǎn)子間隙在0.2-0.3mm之間)使石墨烯漿料在設(shè)備的高線速度下形成湍流,在定轉(zhuǎn)子間隙里不斷的撞擊,破碎,研磨,分散,均質(zhì),從而得出超細(xì)的顆粒(當(dāng)然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點(diǎn)可以得出理想的聚氨酯碳納米管漿料。

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    2024-07-05

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  • GMD2000氧化鋯漿料超高速剪切分散機(jī)

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機(jī)的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機(jī)一般為0.5-0.7mm,SGN定轉(zhuǎn)子更加精密,對于物料的細(xì)化效果更好。另外,SGN乳化機(jī)配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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    2024-07-05

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